半导体污水除氟剂针对含氟废水处理

来源：凡清

时间：2025-10-22

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半导体制造过程中会产生大量工业废水，这类污水主要来源于晶圆清洗、蚀刻、化学机械抛光等工艺环节。半导体污水中含有多种污染物，包括氟化物、重金属、有机溶剂等有害物质。其中氟化物浓度往往超标，这是由于氢氟酸被广泛用于晶圆清洗和蚀刻工艺所致。

半导体污水除氟剂是一种专门针对含氟废水研发的高效处理药剂。其主要成分包括铝盐、钙盐及特殊高分子聚合物。这类除氟剂具有反应速度快、除氟效率高、适应性强等特点。与常规处理剂相比，它能将污水氟浓度从100mg/L以上降至1mg/L以下，完全满足国家排放标准。

使用半导体污水除氟剂时，需根据污水氟浓度确定最佳投加量。一般操作流程为：先调节污水pH值至6-7，然后按比例加入除氟剂，充分搅拌反应30分钟，最后进行沉淀分离。整个处理过程简单高效，无需复杂设备。

采用专业除氟剂处理半导体污水具有显著优势。首先处理效果好，出水稳定达标；其次污泥产量少，仅为传统方法的1/3；再者运行成本低，每吨水处理费用约0.5-1元。最重要的是能实现氟化物的资源化回收，处理后的沉淀物经过适当工艺可转化为氟化钙等有用物质。

随着半导体产业快速发展，含氟废水处理需求持续增长。半导体污水除氟剂以其高效、经济、环保的特点，正在成为行业标配解决方案。