关于半导体超纯水还原剂的使用案例

来源：凡清

时间：2025-10-30

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在半导体超纯水（UPW）制备中，还原剂是守护水质纯度与系统安全的关键药剂，其核心作用是消除氧化性杂质、保护核心设备，直接影响芯片制程的良率与稳定性。随着制程进入 3nm 时代，对还原剂的精准性与洁净度提出了更高要求。​

还原剂的首要功能是中和氧化性污染物。反渗透预处理阶段需投加还原剂去除余氯，避免含氯水体氧化损伤 RO 膜元件，这是保障后续纯化效率的基础。而在先进制程的超纯水抛光系统中，光降解有机物产生的自由基复合氧化剂（如 H₂O₂）会腐蚀晶圆表面形成孔道，需通过还原剂高效淬灭，使其浓度控制在 1μg/L 以下。此外，还原剂与紫外线协同作用时，还能促进尿素等难降解杂质的分解，进一步提升水质纯度。​

当前主流还原剂呈现明确的场景适配性，添加浓度需根据余氯含量精准调节，能在去除氧化剂的同时避免引入新的离子污染。

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应用中需严格把控关键参数：浓度需维持在 7-30ppm 区间，过低影响效果，过高则可能降低杂质分解效率；同时需匹配系统 pH 值与水温，确保反应充分。此外，还原剂自身的纯度至关重要，需控制金属离子含量低于 0.05ng/L，避免造成二次污染。​

作为超纯水制备的 “隐形守护者”，还原剂通过精准的氧化还原调控，为半导体制造提供了稳定可靠的高纯介质支撑。